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近半個(gè)世紀(jì)以來(lái)，硅一直是世界科技繁榮的重點(diǎn)，芯片制造商幾乎都在壓榨它的生命。傳統(tǒng)上用于制造芯片的技術(shù)在2005年左右達(dá)到了極限。那時(shí)，芯片制造商將不得不尋求其它技術(shù)，將更多的晶體管塞到硅板上，而光刻機(jī)的出現(xiàn)很好幫助了芯片制造商解決這一煩惱，從而制造出更強(qiáng)大的芯片。下面就來(lái)詳細(xì)了解一下！光刻機(jī)必須把工程師繪制的電路板精確無(wú)誤的投到硅晶圓上，不允許有絲毫誤差，可見難度之高！將晶體管封裝到芯片上的傳統(tǒng)工藝被稱為“深紫外光刻”（DUV），這是一種類似攝影技術(shù)的技術(shù)，通過(guò)透鏡聚焦光線，...

紅外測(cè)厚儀對(duì)水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠的厚度有著十分重要的意義，它擔(dān)負(fù)著傳遞目標(biāo)信息的作用，直接影響檢測(cè)水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠等厚度的準(zhǔn)確度。今天，給大家講一下紅外測(cè)厚儀是怎么工作的？可應(yīng)用在哪些地方？一、典型應(yīng)用：測(cè)量水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠的厚度。應(yīng)用在涂膠工序時(shí)，該設(shè)備可放置于涂膠池后、烘箱前，在線測(cè)量涂膠的厚度；應(yīng)用在造紙工序時(shí)，該設(shè)備可放置在烘箱后，在線測(cè)量干紙張的水含量。二、測(cè)量原理：利用紅外光穿透物質(zhì)時(shí)的吸收、反射、散射等效應(yīng)實(shí)現(xiàn)非接觸式測(cè)量薄膜類材...

光學(xué)輪廓儀是一款便捷的、精確的、實(shí)用的非接觸三維形貌測(cè)量系統(tǒng)。它建立在移相干涉測(cè)量（PSI）、白光垂直掃描干涉測(cè)量（VSI）和單色光垂直掃描干涉測(cè)量（CSI）)等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性（穩(wěn)定性）定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。在發(fā)展初期，光學(xué)輪廓儀主要采用傳統(tǒng)的光學(xué)成像技術(shù)，通過(guò)鏡頭和傳感器來(lái)獲取物體的輪廓信息。...

光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機(jī)，電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個(gè)信息社會(huì)，各種各樣的信息流在世界流動(dòng)。而光刻機(jī)是保證制造承載信息的載體。在社會(huì)上擁有不可替代的作用。光刻機(jī)的技術(shù)原理：光刻機(jī)就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻機(jī)的作用，類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝...

一、特點(diǎn)固有振動(dòng)頻率是指某種物體共振的頻率，阻尼則是指在振動(dòng)運(yùn)動(dòng)中消除能量、以減輕振動(dòng)的特點(diǎn)。固有振動(dòng)頻率與地基振動(dòng)的振動(dòng)頻率比（f/fn）稱作振動(dòng)傳遞率，是判定隔振效果的標(biāo)準(zhǔn)。固有振動(dòng)頻率愈小、地基振動(dòng)頻率愈大，隔振臺(tái)的隔振效率愈高。也就是說(shuō)，振動(dòng)傳遞率愈低，隔振效果愈佳。振動(dòng)頻率比(f/fn)低于1.414時(shí)為增幅，數(shù)值為1時(shí)固有振動(dòng)頻率與地基振動(dòng)頻率相同，高于1.414則實(shí)現(xiàn)隔振。隔振臺(tái)一般分為線圈彈簧(CoilSpring)和空氣彈簧(AirSpring)兩種，線圈彈...