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等離子去膠和微波去膠的區(qū)別及應(yīng)用分析
2024-10-10

在電子制造和材料科學(xué)領(lǐng)域,去膠技術(shù)是一個(gè)至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。隨著科技的進(jìn)步,等離子去膠和微波去膠作為兩種常見(jiàn)的去膠方法,各自具備特殊的優(yōu)勢(shì)與適用性。本文將探討這兩種技術(shù)的基本原理、優(yōu)缺點(diǎn)及其在實(shí)際應(yīng)用中的區(qū)別。一、基本原理1.等離子去膠:利用等...

  • 2023-04-12

    3結(jié)果與討論3.1顯影時(shí)間影響經(jīng)過(guò)無(wú)掩模光刻機(jī)曝光后,目標(biāo)圖案已轉(zhuǎn)移至ITO玻璃上。將ITO玻璃放置于加熱板上進(jìn)行加熱,烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分,使光刻膠與ITO玻璃結(jié)合更加緊密,此時(shí),經(jīng)過(guò)曝光的光刻膠與未曝光的光刻膠在顯影液中會(huì)存在明顯的溶解速度差。將自然冷卻后的ITO玻璃浸沒(méi)于SU-8光刻膠專(zhuān)用顯影液中,由于本實(shí)驗(yàn)中采用的光刻膠為負(fù)膠,因此顯影目的是為了除去曝光區(qū)域以外的光刻膠。該方法的核心問(wèn)題是控制顯影時(shí)間。圖2為經(jīng)過(guò)不同顯影時(shí)間后,在Ti-E顯微鏡下觀察到的光刻膠...

  • 2023-04-12

    厚度電阻率測(cè)試是一種用于測(cè)量材料電阻率的方法,它可以幫助工程師評(píng)估材料的質(zhì)量和可靠性。該測(cè)試通常通過(guò)將兩個(gè)探頭放在材料的表面上,然后測(cè)量它們之間的電阻來(lái)完成。厚度電阻率測(cè)試有以下幾個(gè)特點(diǎn):1.非破壞性:與其他測(cè)試方法不同,它是一種非破壞性的測(cè)試方法。這意味著對(duì)于需要保留完整性、外觀或功能的材料,您可以快速檢查其電阻率而無(wú)需損壞樣品。因此,它是一種非常有用的測(cè)試方法,尤其適用于生產(chǎn)線上的大批量材料測(cè)試。2.精確性高:該測(cè)試可以提供非常準(zhǔn)確的結(jié)果。通過(guò)使用精密加工的探頭以及計(jì)算機(jī)...

  • 2023-04-12

    1引言ITO(indiumtinoxide)又稱(chēng)氧化銦錫,是一種銦錫金屬氧化物,因其具有光學(xué)透明性[1]、高導(dǎo)電性[2]、易加工性[3]及柔性潛力[4]等優(yōu)點(diǎn),目前在光電檢測(cè)、生物芯片及微納器件等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,例如加工成熱光伏系統(tǒng)濾波器[5]、紅外輻射反射鏡涂層[6]、表面等離子體共振材料[7]等。在實(shí)際應(yīng)用中,ITO通常需先加工成各種形狀的電極,但由于曝光精度低、刻蝕工藝參數(shù)難以控制等原因,ITO電極特征尺寸無(wú)法進(jìn)一步降低。目前將ITO加工成電極的方法多種多樣,主要分...

  • 2023-04-11

    主動(dòng)減震臺(tái)是一種地震工程中常用的結(jié)構(gòu)控制技術(shù),其主要作用是通過(guò)主動(dòng)地對(duì)建筑物進(jìn)行控制,以減小地震對(duì)建筑物的破壞,并保護(hù)人們的生命財(cái)產(chǎn)安全。該技術(shù)使用一系列的傳感器、計(jì)算機(jī)、執(zhí)行器等設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)建筑物結(jié)構(gòu)的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和調(diào)節(jié),從而有效降低地震對(duì)建筑物的影響。主動(dòng)減震臺(tái)的特點(diǎn)主要包括以下幾個(gè)方面:1.高效的減震能力:主動(dòng)減震臺(tái)采用多種減震技術(shù),如電液伺服閥、壓電陶瓷等,可以實(shí)現(xiàn)高效的減震效果。與傳統(tǒng)的被動(dòng)減震技術(shù)相比,它可以更加精確地控制建筑物的振動(dòng),進(jìn)而達(dá)到更好的減震效果。2.靈活...

  • 2023-04-10

    可以的。隨著半導(dǎo)體材料技術(shù)的發(fā)展,對(duì)硅片的規(guī)格和質(zhì)量也提出更高的要求,適合微細(xì)加工的大直徑硅片在市場(chǎng)的需求比例將日益加大。半導(dǎo)體,芯片,集成電路,設(shè)計(jì),版圖,芯片,制造,工藝目前世界普遍采用先進(jìn)的切、磨、拋和潔凈封裝工藝,使制片技術(shù)取得明顯進(jìn)展。新技術(shù)的導(dǎo)入,使SOI等高功能晶片的試制開(kāi)發(fā)也進(jìn)入批量生產(chǎn)階段。對(duì)此,硅片生產(chǎn)廠家也增加了對(duì)300mm硅片的設(shè)備投資,針對(duì)設(shè)計(jì)規(guī)則的進(jìn)一步微細(xì)化。利用超聲波清洗技術(shù),在清洗過(guò)程中超聲波頻率在合理的范圍內(nèi)往復(fù)掃動(dòng),帶動(dòng)清洗液形成細(xì)微回流...

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